青岛某某半导体有限责任公司

青岛某某半导体有限责任公司作为国内领先的半导体制造企业，为满足8英寸晶圆生产线对超纯水的严苛需求，需建设一套高效、稳定的超纯水系统。项目要求产水水质达到国际半导体行业标准（电阻率≥18.2 MΩ·cm），日供水量达720吨（含260吨DI级用水），同时需兼顾环保节能与自动化运行。

1. • 产水电阻率：≥18.25 MΩ·cm（25℃）
   • 产水量：5MΩ·cm用水13 m³/h，18 MΩ·cm（DI级）用水17 m³/h
   • 进水水质：山东青岛市政自来水（电导率≤400 μS/cm）

2. ​工艺挑战

   • 去除水中离子、有机物、微生物及气体（如O₂、CO₂）至超低浓度
   • 实现浓水回收（浓水排放率≤25%），降低水资源浪费
   • 满足半导体行业对颗粒物（＜0.5 NTU）、SDI值（＜4）的严格限制

3. ​特殊需求

   • 系统需具备在线检测功能（TOC、电阻率、硅含量等）
   • 设备需通过ISO 9001质量体系认证，支持7×24小时连续运行
   • 符合半导体工厂洁净车间标准（承重243㎡，楼面承重要求详见图纸）

工艺流程：​
原水→预处理→二级反渗透（RO）→EDI电除盐→脱气膜→抛光混床→终端超滤→超纯水储存

1. ​预处理单元

   • ​多介质过滤器+活性炭过滤器：去除悬浮物、余氯、有机物
   • ​超滤系统（SFD-2880 PVDF膜）​：截留胶体、病毒及大分子杂质
   • ​保安过滤器（40寸PP滤芯）​：保护RO膜免受颗粒污染

2. ​脱盐核心单元

   • ​二级反渗透（RO）​：一级RO产水电导率≤10 μS/cm，二级RO产水电导率≤5 μS/cm
   • ​EDI连续电除盐：采用加拿大坎普尔消毒模块，产水电阻率10-15 MΩ·cm
   • ​抛光混床（H/OH型树脂）​：终端精处理，确保出水电阻率≥18.2 MΩ·cm

3. ​辅助工艺

   • ​脱气膜系统：真空脱除水中溶解氧（O₂＜4 ppm）
   • ​TOC在线监测：实时检测有机物含量，保障水质稳定性
   • ​氮封水箱：防止水质二次污染，维持微生物控制

1. 技术创新

   • 采用“二级RO+EDI+抛光”组合工艺，产水水质优于国际标准（18.2 vs 18.3 MΩ·cm）
   • 脱气膜技术实现无化学药剂除氧，降低运行成本

2. ​环保效益

   • 浓水回用率25%，年节水约4万吨
   • 系统能耗优化（装机功率140.6 KW，实际运行99.24 KW）

3. ​客户价值

   • 支持半导体生产线连续稳定供水，助力客户产能提升20%
   • 全生命周期服务（含耗材供应、远程诊断）降低客户运维压