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一、产品概述
沃特伊兰环境PCB电路板去离子水设备,PCB电路板用去离子水设备采用反渗透(RO)与电去离子(EDI)+抛光混床系统(选配)深度集成工艺,可稳定产出电阻率达18.2MΩ·cm(25℃)的超纯水,完全满足GB/T 11446.1-2013电子级水EW-Ⅰ级标准。该设备通过多级过滤系统精准控制水质参数:总有机碳(TOC)≤0.5 ppb、金属离子(如Cu²+、Fe³+)浓度≤0.1 ppb、0.5μm以上微粒数≤4个/mL,并实现菌落总数≤0.01 CFU/mL的生物洁净度。相较于传统离子交换工艺,该系统通过电化学再生技术将化学药剂消耗降低90%,同时产水周期延长至传统工艺的3倍,确保PCB制造过程中清洗、蚀刻、电镀等工序的用水稳定性。
二、设备照片展示
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三、水质杂质对PCB电路板工艺中的负面影响
电力锅炉用水中的杂质主要通过三大路径危害系统:
金属离子污染:水中Cu²+、Fe³+等金属离子浓度超过0.1 ppb时,会在显影工序中与光阻剂发生络合反应,形成直径0.5-2μm的微粒,导致线路开路缺陷率上升12%-18%。某PCB企业实际案例显示,当Na+浓度从0.3 ppb升至0.8 ppb时,绝缘层耐压值从500V骤降至320V,直接造成30%的产品击穿失效。
有机物残留:总有机碳(TOC)超过1 ppb时,高温烘烤(150℃)会导致有机物碳化,在硅片表面形成磷硅酸盐玻璃(PSG)层,使PN结反向漏电流增加2个数量级。某半导体厂测试表明,TOC从0.8 ppb升至1.5 ppb时,器件良率从98%降至82%。
颗粒物污染:0.5μm以上颗粒物超过4个/mL时,在电镀工序中会造成孔壁镀层不连续,形成≥50μm的空洞缺陷。IPC-6012标准严格规定,Class 3级PCB的微粒控制阈值为0.3μm颗粒≤50个/L,实际生产中某企业因超标导致返工率增加15%。
四、工艺流程图(仅供参考,详细流程请咨询在线客服)
五、技术参数
六、沃特伊兰的优势
沃特伊兰环境的PCB板去离子水设备不仅具备卓越的净化能力,还拥有智能化的管理系统,能够实现远程监控和故障诊断,极大提高了运维效率。我们的设备采用高品质材料和精密控制元件,确保长时间连续工作状态下依然保持优良性能。此外,我们提供定制化服务,根据客户的具体需求灵活调整配置,以达到最佳效果。选择沃特伊兰环境的PCB板去离子水设备,意味着您将获得一个可靠、高效且环保的水资源解决方案,为您的PCB板生产线保驾护航,助力您的企业在激烈的市场竞争中脱颖而出。
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工艺流程图
工程案例
工艺说明书
P&ID图
电气控制图
设备理论培训
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终身售后服务
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24小时解决问题
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