沃特伊兰环境专为第三代半导体、锂电隔膜与OLED蒸镀等新材料工艺量身定制的“W-UPW-NM系列”超纯水设备，以“双级RO+连续电去离子（CEDI）+185 nm UV/TOC裂解+终端超滤”多级级耦合工艺为核心，在25 °C进水条件下稳定产出≥18.2 MΩ·cm、≤1 ppb TOC、≤1 particle/mL（≥0.1 μm）的超纯水，系统回收率≥85 %，吨水能耗≤0.8 kWh，较传统混床工艺节水30 %、减药90 %，整机模块化设计，可一键切换至18 MΩ·cm或15 MΩ·cm两种产水模式，满足实验室小试到千吨级量产的弹性扩产需求

二、设备照片展示

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三、水质杂质对新材料工艺中的负面影响

在原子层沉积（ALD）制备高κ栅介质时，若超纯水中Na⁺、Cl⁻浓度超过5 ppt，界面固定电荷密度将骤增至3×10¹² cm⁻²，导致阈值电压漂移>150 mV、器件漏电流上升一个数量级；锂电湿法隔膜拉伸工序中，≥0.1 μm的硅酸盐颗粒可诱发微孔缺陷，使隔膜孔隙率下降2 %，直接拉低电池循环寿命8 %；OLED蒸镀前清洗若TOC残留>3 ppb，有机碳在高温下碳化形成黑化点，像素发光效率衰减可达12 %，而沃特伊兰将上述关键指标分别控制在<20 ppt、<1 particle/mL、<1 ppb，以数据级水质保障新材料良率与性能极限。

四、工艺流程图（仅供参考,详细流程请咨询在线客服）

五、技术参数

六、沃特伊兰的优势

沃特伊兰环境的新材料超纯水设备不仅具备卓越的净化能力，还拥有智能化的管理系统，能够实现远程监控和故障诊断，极大提高了运维效率。我们的设备采用高品质材料和精密控制元件，确保长时间连续工作状态下依然保持优良性能。此外，我们提供定制化服务，根据客户的具体需求灵活调整配置，以达到最佳效果。选择沃特伊兰环境的半导体超纯水设备，意味着您将获得一个可靠、高效且环保的水资源解决方案，为您的半导体生产线保驾护航，助力您的企业在激烈的市场竞争中脱颖而出。