设备外观:一体化/工业超纯水站
处理规模:0-500m³/h
产水水质:10MΩ·cm、15MΩ·cm、18MΩ·cm、18.2MΩ·cm
设备简介:电子行业超纯水设备,集多级过滤、反渗透及电去离子技术和离子交换技术于一体,专为满足电子行业对水质的高标准而设计。通过精密的预处理、深度脱盐及终端抛光步骤,使设备能产出电阻率高达18MΩ·cm以上的超纯水,确保水质纯净无杂质。
颗粒物可能导致半导体制造中的缺陷和产量损失,特别是在现代微芯片制造中,微小的颗粒也可能干扰光刻、沉积、蚀刻等复杂工艺
例如重金属(铜、铅、汞)、碱金属(钠、钾)和过渡金属(铁、镍)等,这些离子会污染晶圆表面,在沉积过程中引入杂质,或引起不良的化学反应
如碳氢化合物、油、溶剂和表面活性剂,它们可能沉积在产品表面上,阻碍粘附,影响光刻胶的性能,从而导致缺陷
包括细菌、真菌和孢子,它们可能导致生物膜形成和微生物腐蚀,对半导体制造构成重大威胁
@2025 深圳市沃特伊兰环境科技有限公司 版权所有 粤ICP备2023113346号 少量素材来源于网络,版权归原作者所有,如有不妥,告知删除 sitemap
技术支持:网站建设