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纯净水设备(直饮)

处理水量：0-500m³/h
产水水质：≥18MΩ·cm
设备简介：半导体超纯水设备是专为半导体行业设计的高效水处理系统，旨在生产符合半导体生产工艺要求的超纯水。该设备集成了预处理、反渗透、电去离子（EDI）及抛光混床等先进技术，通过多级过滤与离子交换，有效去除水中的溶解盐、有机物、微粒及微生物等杂质，确保出水水质达到极高纯度标准，通常电阻率超过18兆欧·厘米。其结构紧凑，自动化程度高，能够实现连续稳定运行与水质在线监测，保障半导体生产过程中对水质稳定性和一致性的严苛需求。此外，设备还具备节能环保、易

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应用行业

纯净水设备(直饮)

产品特点优势

01: 产水水质高且稳定

02: 能耗低水利用率高

03: 自动化程度高无需人员值守

04: 设备占地面积小

05: 低能耗低排放

06: 操作简易维护方便

设备原理

半导体超纯水设备的运行原理是通过多级纯化工艺将自来水中的杂质去除，达到超纯水的要求。其核心步骤包括预处理、反渗透、电去离子（EDI）及抛光混床等。预处理阶段，通过石英砂过滤器、活性炭过滤器等设备去除水中的悬浮物、有机物和部分溶解盐。接着，反渗透技术利用高压驱动水通过半透膜，有效去除水中的大部分无机盐、有机物等杂质。电去离子（EDI）阶段，结合了离子交换膜技术和离子电迁移技术，通过电场作用使水中的离子发生定向移动，并利用交换膜的选择透过性进行提纯。最后通过抛光混床罐，水中的阳离子和阴离子会与树脂上的相应离子进行交换，从而实现离子的去除，进一步去除水中的离子，提升水质纯度。

具体的工业流程，根据客户的水质要求对应的采用不同的工业流程和设备材质:

水质	工艺流程	材质
电导率≤10μs/cm	预处理 + 一级RO	UPVC+SS304
电导率≤5μs/cm	预处理 + 一级RO 预处理 + 二级RO	UPVC+SS304
电导率≤2μs/cm	预处理 + 二级RO	UPVC+SS304
电导率≤1μs/cm 电阻率≥1MΩ·cm	预处理 + 一级RO + 混床预处理 + 二级RO + EDI	UPVC+SS304
电导率≤0.067μs/cm 电阻率≥15MΩ·cm	预处理 + 二级RO + EDI	UPVC+SS304+CPVC
电导率≤0.055μs/cm 电阻率≥18.2MΩ·cm	预处理 + 一级RO + 混床 + 二级抛光混床预处理 + 二级RO + EDI + 抛光混床	UPVC+SS304+CPVC+PVDF

设备报价：

一级反渗透纯水设备型号大全
序号	产水量	一级RO设备型号	一级RO+混床设备型号	一级RO+混床+抛光设备型号	设备价格
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二级反渗透纯水设备型号大全
序号	产水量	二级RO设备型号	二级RO+混床设备型号	二级RO+混床+抛光设备型号	设备价格
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